ECR Plasma Source

低圧動作が可能なECRプラズマイオン源 

Atom Source 

アトムフラックス生成源、リアクティブガスの使用も可能

Hybrid Source

イオンビームとラジカル混成ビームのモードを切り換え可能

Ion Etch

最大5KeVの加速電圧

小型のECRイオン源

CF70マウント