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カスタムメイドの研究/EPAプロセスの特徴は、固体または液体ターゲットを高エネルギープラズマビームを用いてミクロン単位層を瞬時に（数ナノ秒以内）に昇華蒸発させる点にあります。
EPAプロセスは幅広い種類の化学的合成材料や配位化合物の製膜技術として一般的な物理蒸着（PVD）から派生した技術です。全セグメントのターゲット材は数ナノ秒で高エネルギープルーム状にアブテーションされる為、ターゲット材料は基板に対してスムースに化学量論的移動を生じます。
この過程は同時に高い反応とアブレーション種の内部エネルギーを伴い、そして各種のバックグランドガスを併用した幅広い圧力範囲でのオペレーションが可能です。指向性の強いアブレーションプルームにより、従来PVDプロセスやCVDプロセスでは困難であった合成材料の高品質薄膜の生成を可能にします。堆積膜のカバレッジ、ユニフォーミティにも優れ、試験段階では最大200mmの基板について±5％のユニフォーミティを実現しました。EPAプロセスでは理論上、全ての材料についての薄膜生成が可能です。EPA装置最大の特徴はPLD（パルスレーザーデポジション）に匹敵する高出力密度のターゲット表面にあります（10E6W/㎜2）。
しかし、PLDプロセスではSiO2（バンドギャップ10eV)の事例ではエキシマレーザーの透過、或いは材料面の反射や光学的吸収の問題に慎重さを残します。EPAプロセスではターゲット材が導電性や絶縁体の場合でも0.01Å/Pulseから100Å/Pulseの堆積レートが期待できます。付加機能として
カソードホルダー/水冷ターゲットホルダーなど仕様に応じたカスタマイズも対応します。
光源（レーザー）を含めたPLD装置に比較してコストパフォーマンスにも優れたプロセスです。
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